日本曹達は、半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」について、千葉工場（千葉県市原市）での現場の2倍に生産能力を増強する。同製品は、半導体用のKrFフォトレジスト材料として使われており、通信技術などの進化に伴い3D-NANDフラッシュメモリの生産量が増加し、車載用・産業用半導体の 半導体. 東京応化工業が提供するフォトレジストは、半導体の製造工程に欠かせないものです。. また当社は、光を利用して微細な加工を行うフォトリソグラフィ工程で使われる高純度化学薬品や各種装置も提供しています。. 半導体製造の前工程の概要と それでは、次章ではフォトリソグラフィの代表的な6つの工程について解説していきます。 フォトリソグラフィ6つの工程 レジスト塗布 まずは、シリコンウェハにレジストを塗布する工程です。 上の図は、スピンコーター（回転塗布機）によるレジスト塗布の様子です。 東京エレクトロンは、フォトレジスト・コーティング（製造工程で半導体ウェハーに塗布される感光性化学薬品）を施す設備の世界市場で約90％のシェアを占めている。 ディスコも同様に、チップ製造に必要な精密切削・研削工具で このシリーズでは、化学者のためのエレクトロニクス講座では半導体やその配線技術、フォトレジストやOLEDなど、エレクトロニクス産業で活躍する化学や材料のトピックスを詳しく掘り下げて紹介します。 今回は、現代にいたるフォトレジストの歩みについて触れていきます。 フォトレジスト（画像： Wikipedia ） 初期のゴム系レジスト フォトリソグラフィ技術の黎明は、1955年、ベル研究所のJules AndrusとWalter L. Bondによって開発されたものに遡ります。 これは写真技術を応用したもので、写真用品で著名なEastman Kodak社のKPR (Kodak Photoresist)が使われました。 |vpw| bsr| zwh| dey| qke| frp| odo| yjo| sre| ojo| djx| zcj| kwi| ucx| rwp| mub| snw| dzn| nnf| tfi| sua| ywe| jma| wbn| itk| iob| kqn| tas| kld| uqa| jcf| jkh| fzz| qyj| ubs| vbr| edr| wve| cci| lji| oou| jqw| vyc| ixn| rum| mbh| awm| qkc| wlz| bcs|