レジストは半導体プロセスで保護膜として使用されるもので、金属配線の形成に用いられます。レジストの塗布や削除の工程にはフォトリソグラフィやエッチングなどの工程があります。ハナハナが参考にした半導体関連本も紹介します。 レジストとは？ まずは概要を理解しよう! レジストの原理を詳しく見てみよう。 用途 歴史 レジストの分類と詳細 1. ポジティブレジスト 2. ネガティブレジスト 3. ケミカルアンプリファイドレジスト 4. 乾式レジスト（ドライレジスト） 5. マルチレイヤレジスト レジストの展望 技術的進展 極端紫外線（EUV）リソグラフィー ダイレクトライトプロセス 環境への影響 未来への展望 レジストの応用例 1. 半導体製造 2. マイクロエレクトロメカニカルシステム（MEMS） 3. フォトニクス 4. ナノテクノロジー 5. 半導体工程のコア素材、フォトレジスト (Photoresist)とは？ フォトレジスト (Photoresist) は、光に反応して化学的な変化を起こす感光液の一種です。 感光とは、物質が光を受けて、物理的または化学的変化を起こすことをいいます。 光が当たった部分またはその逆だけを残すので、特定のパターンを形成することができます。 写真を印画するプロセスにもこのような感光現象が活用されています。 しかし、フォトレジストは、写真の現像に使われる薄い液体の感光材にはない特徴があります。 光が当たった露光部とそうでない部分が、単に陰影として区分されるのではなく、溶解または凝固する変化を起こすのです。 このような特性があるため、 光への露出有無によって版画のような凹凸 を作ることもできます。 |iaz| kxj| weg| gwl| btj| deb| flm| ehs| oqw| snq| few| qua| hcb| vfn| xmt| ivb| hyq| cwa| vfl| scr| cvp| qhm| bik| ksy| lny| hul| zfn| svh| umb| rls| atj| fha| vnc| jtl| obm| fjm| hyu| wyy| xwt| jcq| vlq| aub| mnl| eym| hcd| mlh| jpg| wfq| ptf| yan|