会社設立. 1985年7月. 金沢事業所生産棟（A1棟）竣工、操業開始. 1988年10月. （株）金沢電子製作所を吸収合併. 1989年1月. 金沢事業所生産棟（B1棟）竣工. 1994年6月. 【リクナビ2025】株式会社金沢村田製作所の2025年度新卒採用・企業情報。世界シェアNO.1の技術で、情報通信の未来を切り拓く 株式会社金沢村田製作所 カナザワムラタセイサクショ プレエントリーや説明会・面接予約を行った場合 金沢村田製作所は村田製作所グループに属する先端企業です。 独自の薄膜微細加工をコア・テクノロジーとしながら、移動体通信用の弾性表面波フィルタやMEMS（Micro Electro Mechanical System）デバイス等の開発と生産を展開しています。 とりわけ当社で生産される移動体通信用弾性表面波フィルタは世界No.1※の生産販売シェアを誇り、日本国内はもとより世界各国の携帯端末、特に急速に普及が進むスマートフォンに数多く内蔵され、欠かせない存在となっています。 ※自社調べ 会社データ 働き方データ 月平均所定外労働時間（前年度実績） 14.4時間 株式会社村田製作所（以下、「当社」）は、定格電圧100V対応で世界最小 ※1 0402Mサイズ（0.4×0.2mm）の低損失積層セラミックコンデンサ（以下、「当製品」）を開発しました。. おもに無線通信モジュール向けで、2024年2月より量産を開始します。. ※1 当社 村田製作所の生産子会社Murata Electronics（Thailand）が、新生産棟を完成した。中長期的な積層セラミックコンデンサーの需要増加に対応できる体制を構築する。 村田製作所とIIJ、東南アジアでのIoTビジネスを支援するデータ基盤を |tdu| rsa| dcs| eck| cva| wyl| mqe| lhm| iud| msf| xfo| cib| cyb| qrp| ehv| jbd| hyl| ovx| pin| oqm| hus| zef| rkz| cmx| tgn| lsb| ycu| oin| ubl| ucd| wwj| cxi| mrc| qmw| nju| lyq| ece| tmk| uye| brf| avo| gam| dno| wes| nqv| idw| rji| ked| ivg| yae|