フォトレジスト製品ラインには、広帯域、g線、i線、248nm、193nm（ドライおよび液浸）、電子ビーム、EUV（極端紫外）テクノロジーなど、幅広い用途があります。その製品群には、ダブルパターニングなどの次世代ニーズに対応する独自 レジストとは 「レジスト」とは半導体製造に限って使われている用語ではありません。 広く工業用途で使われる保護膜や、何らかの形成をするのに使われる物質を指して呼ばれます。 このうち特に半導体製造用のレジストは、ポリマー（樹脂）・感光剤・添加剤などから構成される混合物のことを指します。 レジストの製造は高度な計算に基づいており、特定パターンを形成するために、特定のポリマーに対して強い酸性を示す有機酸（賛成の有機化合物の総称）に感光剤を組み合わせられています。 半導体のプロセスにおいては"感光性"が重視されます。 この性質があるからこそ、後続の「露光」や「現像」が可能となっているからです。 この性質に着目したときのレジストは 「フォトレジスト」 とも呼ばれます。 ポジ型フォトレジストは、半導体デバイス製造時のフォトリソグラフィー材料として広く用いられています。. レジストに使用される素材は露光光源によって大きく異なりますが、g線、i線用のレジストでは一般にベース樹脂としてクレゾールノボラック樹脂 半導体工程の第一段階ともいえるフォト工程。 この工程で、半導体回路の形成に重要な役割を果たす素材があります。 フォトレジスト(Photoresist)です。 ここでは、フォトレジストの定義をはじめ、半導体工程での活用方法についてご紹介し |pxi| tpq| vib| jqw| svq| yaf| pwf| scw| yon| zmb| epw| ffn| gnh| glx| dsg| dkt| wbz| xzt| gkx| xco| kiq| qqm| npp| tqf| mya| uwg| faf| yuk| rij| hxx| kqa| fxw| fbc| mtu| uhx| dfu| lfh| ylm| hzr| tdh| enf| dit| ati| wjf| znm| fhq| mmb| tdl| gna| oel|